SEMI F21潔凈室空降分子污染(AMC)分析
確保您的潔凈室制程車間沒有污染
2025年3月28日,SGS成功舉辦了“半導體AMC氣相分子污染物環境監測與質控研討會”。本次研討會匯聚了來自半導體行業的企業代表、專家學者以及相關從業人員,共同探討如何應對AMC(氣相分子污染物)對制程良率的隱形威脅,推動半導體行業在AMC監測與治理領域的技術進步與合作,為提升行業整體水平提供有力支持。

研討會與會人員合影
隨著半導體工藝的快速革新,AMC氣相分子污染物對高端芯片制造構成嚴峻挑戰,精準監測與控制AMC成為行業亟待解決的關鍵問題。本次研討會匯聚行業專家,共同探討半導體行業微環境監測與治理的有效方案,助力企業應對成本與技術雙重挑戰。

研討會現場
研討會伊始,歐洲科學院院士、復旦大學特聘教授陳建民,TOF-WERK首席運營官Christoph Eggimann,以及國家技術轉移東部中心副總裁朱江分別發表了開場致辭,為研討會拉開了精彩序幕。

開場致辭
會上,數位業內資深專家帶來了精彩紛呈的演講。從SGS李宗河對半導體環境離線AMC測試方法的細致介紹,到復旦大學王麗娜關于生產環境AMC污染控制研究綜述;從Tofwerk China譚穩分享的快速質譜實時檢測應用,到清正節能田松對錳基多元催化劑的應用初探,以及復旦大學林景新博士關于大氣中氣態PFAS檢測的講解,演講內容圍繞AMC監測方法、污染控制、新技術應用等多個關鍵方向,為與會者呈現了全面且深入的知識盛宴。

嘉賓發表主題演講
在熱烈的學術氛圍中,現場互動交流環節氣氛活躍。參會人員踴躍提問,與演講嘉賓就技術難點、行業趨勢等問題展開深入探討。此外,研討會還安排了參觀上海綠色國際低碳概念驗證中心,讓與會者在實地體驗中進一步加深對相關技術與應用場景的理解。

現場交流/參觀
本次研討會不僅為半導體行業專業人士提供了一個交流最新研究成果和實踐經驗的平臺,也為解決AMC污染問題、推動半導體行業高質量發展注入了新動力。未來,SGS將持續關注AMC檢測技術在半導體領域的創新與應用,助力半導體行業在應對環境挑戰、提升產品質量等方面不斷取得新突破。
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